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商品参数：
| 技术参数及性能： |
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1、溅射腔体外形尺寸：φ140mm×150mm；
2、溅射靶台：φ70mm×20mm；
3、溅射靶台和溅射靶可调距离：10~50mm；
4、基片加热温度可控范围：室温~80℃；
5、溅射气压可调范围：10Pa~200Pa;
6、溅射电压：0V~1000V连续可调；
7、溅射电流：0~200mA可测；
8、气源流量可控范围：6~60ml/min；25~250ml/min；
9、供电电源：AC220V，50HZ；
10、整机功率：1.5KW。
另配膜厚测量仪、高倍光学显微镜、气源等 |
商品描述：
| 特点： |
◆溅射靶台和溅射靶距离可调节，研究在不同距离时对薄膜溅射的影响；
◆溅射基片可进行加热，加热温度可控，研究基片温度对薄膜溅射的影响；
◆溅射气压、溅射气源流量可调节，研究不同气压、气源流量对薄膜溅射的影响；
◆反应腔体采用石英玻璃管，可直观地观察到溅射现象；
◆工作气体可调节更换，并可多路气体混合工作。 |
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售后服务承诺:1年免费质量担保。
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